High temperature superconductors : processing and science /

Saved in:
Bibliographic Details
Author / Creator:Bourdillon, A., 1944-
Imprint:Boston : Academic Press, c1994.
Description:xx, 288 p. : ill. ; 24 cm.
Language:English
Subject:
Format: Print Book
URL for this record:http://pi.lib.uchicago.edu/1001/cat/bib/1460764
Hidden Bibliographic Details
Other authors / contributors:Tan Bourdillon, N. X.
ISBN:0121176800 (alk. paper) : $64.50
Notes:Includes bibliographical references and index.

MARC

LEADER 00000cam a2200000 a 4500
001 1460764
003 ICU
005 19970811020600.0
008 930507s1994 maua b 001 0 eng
010 |a  93010293 
020 |a 0121176800 (alk. paper) :  |c $64.50 
035 |a (ICU)BID17067388 
035 |a (OCoLC)27815047 
040 |c DLC  |d DLC$dOrLoB 
050 0 0 |a QC611.98.H54  |b B68 1994 
082 |a 537.6/23  |2 20 
100 1 |a Bourdillon, A.,  |d 1944-  |0 http://id.loc.gov/authorities/names/n93024309  |1 http://viaf.org/viaf/97537 
245 1 0 |a High temperature superconductors :  |b processing and science /  |c A. Bourdillon and N.X. Tan Bourdillon. 
260 |a Boston :  |b Academic Press,  |c c1994. 
300 |a xx, 288 p. :  |b ill. ;  |c 24 cm. 
336 |a text  |b txt  |2 rdacontent  |0 http://id.loc.gov/vocabulary/contentTypes/txt 
337 |a unmediated  |b n  |2 rdamedia  |0 http://id.loc.gov/vocabulary/mediaTypes/n 
338 |a volume  |b nc  |2 rdacarrier  |0 http://id.loc.gov/vocabulary/carriers/nc 
504 |a Includes bibliographical references and index. 
505 2 0 |g I.  |t The Superconducting State.  |g 1.  |t History.  |g 2.  |t Phenomena.  |g 2.1.  |t Critical Temperature, Critical Field and Critical Current.  |g 2.2.  |t The Meissner-Ochsenfeld Effect.  |g 2.3.  |t Penetration Depth and Coherence Length.  |g 2.4.  |t Thermal Properties.  |g 2.5.  |t Flux Pinning.  |g 2.6.  |t Tunneling.  |g 3.  |t Theoretical Outline.  |g 3.1.  |t The Ginzburg-Landau Theory.  |g 3.2.  |t BCS Theory --  |g II.  |t High Temperature Superconductors.  |g 1.  |t Materials Classification.  |g 1.1.  |t Alkaline Earth Doped La[subscript 2]CuO[subscript 4].  |g 1.2.  |t The Y-Ba-Cu-O System.  |g 1.3.  |t [actual symbol not reproducible] Systems.  |g 1.4.  |t Other Systems.  |g 1.5.  |t Summary of Typical Processing Parameters.  |g 2.  |t Defects and Crystal Chemistry.  |g 2.1.  |t Oxygen Vacancies and Hole Creation.  |g 2.2.  |t Lattice Defects.  |g 2.3.  |t Flux Pinning Sites.  |g 3.  |t Metallic States.  |g 3.1.  |t Energy Levels and Bands.  |g 3.2.  |t Measurements of Carrier Densities --  |g III.  |t Phase Equilibria.  |g 1.  |t Phase Equilibria.  |g 2.  |t Phase Diagrams for LBCO.  |g 3.  |t Phase Diagrams for Y123.  |g 4.  |t Phase Diagrams for Bi2223 and T12223 --  |g IV.  |t Powder Processing, Bulk Formation and Densification.  |g 1.  |t Chemical Reaction.  |g 1.1.  |t Calcination.  |g 1.2.  |t Sintering.  |g 2.  |t Powder Processing.  |g 2.1.  |t Milling Media.  |g 2.2.  |t Co-precipitation.  |g 2.3.  |t Aerosol Techniques.  |g 2.4.  |t Sol-gel.  |g 2.5.  |t Precursor Routes.  |g 3.  |t Shaping and Densification.  |g 3.1.  |t Pelletization.  |g 3.2.  |t Wire Formation.  |g 3.3.  |t Tape Formation.  |g 3.4.  |t Coils.  |g 3.5.  |t Liquid Phase Sintering.  |g 3.6.  |t Hot Uniaxial Pressing.  |g 3.7.  |t Cold and Hot Isostatic Pressing.  |g 3.8.  |t Joining.  |g 3.9.  |t Other Methods --  |g V.  |t Thin Films.  |g 1.  |t Fabrication Principles.  |g 1.1.  |t In Situ and ex Situ Growth.  |g 1.2.  |t Oxygen Pressure.  |g 1.3.  |t Stoichiometry.  |g 1.4.  |t Co-deposition from Multiple Sources.  |g 1.5.  |t Substrates.  |g 1.6.  |t [alpha]-Axis Films.  |g 1.7.  |t Heterostructures.  |g 1.8.  |t Film Quality.  |g 2.  |t Deposition Techniques.  |g 2.1.  |t Thermal Evaporation.  |g 2.2.  |t Sputtering.  |g 2.3.  |t Laser Ablation.  |g 2.4.  |t Chemical Vapor Deposition.  |g 2.5.  |t Metalorganic Solution Deposition.  |g 3.  |t Weak Links and Transport Current --  |g VI.  |t Alignment in Bulk Material.  |g 1.  |t Partial Melting.  |g 2.  |t Directional Solidification.  |g 2.1.  |t Zone Melting.  |g 2.2.  |t Float Zone Grown Single Crystal Fibers.  |g 2.3.  |t Growth of Single Crystals.  |g 3.  |t Other Methods for Growing Fibers.  |g 4.  |t Deformation Alignment.  |g 5.  |t Magnetic Alignment.  |g 6.  |t Diffusion Texture through Precursors.  |g 7.  |t Second Phase Inclusions --  |g VII.  |t Dopants, Impurities and Chemical Stability.  |g 1.  |t Dopants.  |g 1.1.  |t Alkali Metals.  |g 1.2.  |t Alkaline Earths.  |g 1.3.  |t Transition Metals.  |g 1.4.  |t Noble Metals.  |g 1.5.  |t Pb Doping in Bi2223.  |g 1.6.  |t Halides.  |g 1.7.  |t Other Dopants.  |g 2.  |t Contamination in Materials Preparation.  |g 2.1.  |t Purity of Starting Powders.  |g 2.2.  |t Carbon.  |g 2.3.  |t Nitrates.  |g 2.4.  |t Contaminants from Milling Media.  |g 3.  |t Corrosion.  |g 3.1.  |t Electrochemistry.  |g 3.2.  |t Aqueous Environments.  |g 3.3.  |t Acid Solutions.  |g 3.4.  |t Basic Solutions.  |g 3.5.  |t Organic Solutions.  |g 3.6.  |t Protection --  |g VIII.  |t Characterization.  |g 1.  |t Electricity and Magnetism.  |g 1.1.  |t The Four-Probe Technique.  |g 1.2.  |t Electrical Contacts.  |g 1.3.  |t Magnetic Susceptibility.  |g 2.  |t Crystal Structures.  |g 2.1.  |t Neutron Diffraction.  |g 2.2.  |t X-Ray Diffraction.  |g 2.3.  |t Electron Diffraction.  |g 2.4.  |t Characterization of Texture.  |g 3.  |t Microstructures.  |g 3.1.  |t Electron Microscopy.  |g 3.2.  |t Optical Microscopy.  |g 3.3.  |t Grain Boundaries.  |g 3.4.  |t Scanning Tunneling Microscopy.  |g 3.5.  |t Rutherford Backscattering.  |g 4.  |t Wet Chemistry.  |g 4.1.  |t Volumetric Measurement.  |g 4.2.  |t Iodometric Titration --  |g IX.  |t Applications.  |g 1.  |t Bulk Material.  |g 1.1.  |t Cables.  |g 1.2.  |t Magnets.  |g 1.3.  |t Magnetic Bearings.  |g 1.4.  |t Magnetic Shields.  |g 1.5.  |t Requisite Critical Current Densities.  |g 2.  |t Thin Films.  |g 2.1.  |t SQUIDs.  |g 2.2.  |t Microwave Devices.  |g 2.3.  |t Bolometers.  |g 2.4.  |t Interconnects for High Speed Circuits.  |g 2.5.  |t Digital Electronic Devices.  |t Appendix I. Magnetic Units in SI and cgs Systems --  |t Appendix II. Toxicity Data --  |t Appendix III. A15 Compounds. 
650 0 |a High temperature superconductors  |0 http://id.loc.gov/authorities/subjects/sh88004641 
650 0 |a High temperature superconductors  |x Industrial applications. 
650 7 |a High temperature superconductors.  |2 fast  |0 http://id.worldcat.org/fast/fst00956487 
650 7 |a High temperature superconductors  |x Industrial applications.  |2 fast  |0 http://id.worldcat.org/fast/fst00956489 
700 2 0 |a Tan Bourdillon, N. X.  |0 http://id.loc.gov/authorities/names/n93024313  |1 http://viaf.org/viaf/41927259 
850 |a ICU 
901 |a ToCBNA 
903 |a HeVa 
903 |a Hathi 
929 |a cat 
999 f f |i 2c62d6d9-ae1c-55b2-90c0-086b1aca3e4c  |s 86553e06-b7b3-5f2a-90c1-72f464ade574 
928 |t Library of Congress classification  |a QC611.98.H54B680 1994  |l JCL  |c JCL-Sci  |i 2222462 
927 |t Library of Congress classification  |a QC611.98.H54B680 1994  |l JCL  |c JCL-Sci  |e CRERAR  |b 43022793  |i 2840370